據(jù)介紹，氫能作為目前最具發(fā)展?jié)摿Φ那鍧嵞茉矗浞蛛x與提純方法是當前制約氫能廣泛應用的關鍵問題。陶葉晗等發(fā)現(xiàn)，孔洞石墨烯具有較易控制的孔結構。該團隊采用計算機模擬方法，研究不同結構及條件下，石墨烯對不同氣體分子的選擇性吸附和分離的影響，進而探索石墨烯在氣體分離方面的應用。這種理論對設計新型高效的氫氣分離膜具有重要意義。
無獨有偶，西班牙Graphenea公司于近日宣布，與日本立命館大學等共同實現(xiàn)了GaN結晶用石墨烯作為中間層時在硅(100)面上的生長。該技術是日本立命館大學理工學部電子光信息工學科荒木努和名西Yasushi的研究室、美國麻省理工學院(MIT)、韓國首爾大學(Seoul National University)、韓國東國大學(Dongguk University)及西班牙Graphenea公司共同開發(fā)的。
在硅(100)面上直接生長缺陷少的GaN結晶時非常困難，幾乎沒有成功先例。此次Graphenea公司等在硅(100)面上首先形成石墨烯，然后在石墨烯上實現(xiàn)(0001)面的GaN結晶生長。
值得期待的是，2014年9月1日至3日，一場匯聚全球一流石墨烯科學家和企業(yè)家的中國國際石墨烯創(chuàng)新大會將在寧波東港喜來登大酒店隆重舉辦，以Graphenea公司、ICN2研究所、ICFO研究所為代表的西班牙組團也將參加本次大會。另外，從組辦方會議網(wǎng)站了解到，參加本次大會還有英國國家石墨烯研究院、英國國家物理實驗室、劍橋大學、美國萊斯大學、法國國家科學研究中心、意大利科技研究所石墨烯實驗室、日本國立材料研究所、新加坡國立大學、CVD設備公司、Angstron Materials公司、諾基亞公司、東麗先端公司、一汽集團、康佳集團、墨西科技、深圳貝特瑞、偉星集團、深圳市電子商會、中煤出口、金山礦業(yè)、中信建投等國內(nèi)外一流企業(yè)和機構。相信通過本次大會的成功舉辦,必將成為加強國際石墨烯材料技術交流合作的橋梁紐帶,促進國內(nèi)外知名企業(yè)更多地關注和投資石墨烯產(chǎn)業(yè)。
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